在功率半導(dǎo)體器件中,柵極電荷(Gate Charge)是一個(gè)關(guān)鍵參數(shù),直接影響器件的開(kāi)關(guān)性能、驅(qū)動(dòng)電路設(shè)計(jì)以及整體效率。無(wú)論是MOSFET、IGBT還是寬禁帶半導(dǎo)體器件(如SiC和GaN),柵極電荷的大小和特性都決定了器件在高頻、高功率應(yīng)用中的表現(xiàn)。
1.柵極電荷的基本概念
柵極電荷(QG)是指在功率半導(dǎo)體器件(如MOSFET或IGBT)的柵極施加電壓時(shí),為建立導(dǎo)電溝道所需的電荷總量。這一過(guò)程涉及柵極電容的充放電,其電荷量直接影響器件的開(kāi)關(guān)速度和驅(qū)動(dòng)功耗。
柵極電荷通常由三部分組成:
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QGS(柵源電荷):用于克服柵源電容(CGS)并達(dá)到閾值電壓(VTH)的電荷。
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QGD(柵漏電荷,又稱米勒電荷):用于對(duì)柵漏電容(CGD)充電,直至器件完全導(dǎo)通或關(guān)斷。
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QGC(總柵極電荷):即QGS + QGD,代表完全導(dǎo)通器件所需的總電荷量。
柵極電荷與開(kāi)關(guān)特性的關(guān)系
柵極電荷的大小直接影響器件的開(kāi)關(guān)速度:
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高QG:需要更大的驅(qū)動(dòng)電流或更長(zhǎng)的充電時(shí)間,導(dǎo)致開(kāi)關(guān)損耗增加。
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低QG:可實(shí)現(xiàn)更快開(kāi)關(guān)速度,但可能受限于寄生參數(shù)(如電感)的影響。
在高速開(kāi)關(guān)應(yīng)用中(如開(kāi)關(guān)電源或逆變器),優(yōu)化柵極電荷是提高效率的關(guān)鍵。
2.柵極電荷的測(cè)量方法
2.1 標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試電路
柵極電荷的測(cè)量通常采用恒流源驅(qū)動(dòng)法,測(cè)試電路包括:
測(cè)試時(shí),柵極電壓從0V升至目標(biāo)驅(qū)動(dòng)電壓(如10V或15V),記錄VGS隨時(shí)間的變化曲線,進(jìn)而提取QGS、QGD和QGC。
2.2 數(shù)據(jù)手冊(cè)中的柵極電荷曲線
器件數(shù)據(jù)手冊(cè)通常提供柵極電荷(QG)與柵源電壓(VGS)的關(guān)系曲線。該曲線的斜率變化點(diǎn)對(duì)應(yīng)QGS和QGD的分界:
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初始線性段:代表QGS,對(duì)應(yīng)CGS充電階段。
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平臺(tái)區(qū):代表QGD,即米勒效應(yīng)主導(dǎo)階段。
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后續(xù)上升段:代表柵極電壓繼續(xù)升高至完全導(dǎo)通。
3.柵極電荷的影響因素
3.1 器件結(jié)構(gòu)參數(shù)
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柵極面積:面積越大,柵極電容(Ciss = CGS+ CGD)越高,QG越大。
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氧化層厚度:薄氧化層可降低閾值電壓,但可能增加?xùn)艠O漏電流。
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溝道長(zhǎng)度:短溝道器件通常具有更低的QGD,有利于高頻應(yīng)用。
3.2 工作條件
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驅(qū)動(dòng)電壓(VGS):更高的VGS需要更多的QGC,但可降低導(dǎo)通電阻(RDS(on))。
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溫度:高溫下,載流子遷移率下降,可能導(dǎo)致柵極充電時(shí)間延長(zhǎng)。